辐射体积

间接光漫射被储存在辐射体积的阵列中。他们通过控制辐射体积的阵列和分辨率来控制。

选中辐射体积物体后出现的那些小圆点阵列就是他们计算漫射光照的位置。

See also

如果场景中启用了环境光遮蔽(AO)，它将会影响到间接光漫射照明。如果启用环境光遮蔽(AO)时勾选 弯曲法线，它从被遮蔽最少的方向采样，结果会更准确。

参考

面板

物体数据 ‣ 光照探头

距离

探头物体仅影响其邻近表面的光照，其作用区域由距离与物体缩放比例定义。根据探头的类型，影响距离有所不同。

对于辐射体积而言，体积内部的影响总是100%。其影响只有在体积外部才会发生衰减，直到距离达到设定的距离参数值(自身空间)。

衰减

影响距离的百分比，探头的影响将沿其线性衰减。

强度

被记录光照的强度系数。将该参数值设为1.0之外的值将不真实。用于调整艺术效果。

分辨率

每个辐射体积探头的空间分辨率是独立的。其自身体积被分成指定尺寸的栅格。每个栅格的小格子都将被计算一次辐射采样。

范围限制

定义当采集场景时的近距与远距裁减。

Warning

裁切距离被应用于每个采样点的位置，而不是探头物体的原点。

可见性集合

当物体距离探头过近时，会影响探头探测场景来烘焙光照贴图。可见性集合可以使仅该集合(群组)物体可被探头采集到光照信息。

另有一个选项可以反转该集合, 并隐藏此集合中的物体，不会被探头采集光照信息烘焙到反射贴图中。

Note

这只是一个过滤选项。如果一个物体在渲染时不可见，那么它在探头烘焙中也是不可见的。

可见性

对于每个网格点，都会渲染一个小的方差阴影贴图。此可见性立方体贴图用于减少遮挡物后面的光泄漏。您可以在渲染设置中调整此贴图的大小，并在探头属性选项卡内调整每个网格的偏差和模糊因子。

偏差

降低自身阴影的伪影。

出血偏移量

提高深度测试结果的 “对比度”。

模糊

过滤可见性阴影贴图时使用的模糊量。它不会加大性能负担，对烘焙时间影响很小。

来自辐射体积的光照数值会向外衰减，直至体积边界。它们会融入场景照明或者另一个辐射体积光照。

如果多个辐射体积探头重叠一起，则优先显示体积较小的照明。

如果物体不在任何辐射体积内部，或者间接光没有烘焙，将使用场景漫射光对其进行着色。

Tip

影响

在3D视图中显示影响边界。靠内的边界是衰减开始的地方。

范围限制

在3D 视图中显示裁减距离。