间接光照明

While not strictly correct, all lighting that is not coming straight out from a light object is considered as indirect lighting in EEVEE. That means distant HDRI lighting (or World) is considered as indirect lighting. Mesh objects using an Emission node are also considered as indirect lighting.

In EEVEE, indirect lighting is separated into two component: Diffuse and Specular. Both have different needs and representation. For efficiency, the indirect lighting data is precomputed on demand into a static lighting cache.

到目前为止，光缓存是静态的，需要在渲染之前计算。它不能被每帧更新（除非通过脚本）。这个限制正在解决中，并会在将来的版本中移除。

只能查看独立照明。这就是为什么Reflection Planes（反光板）不存储在光缓存中的原因。

烘焙过程中使用的是当前活动视图层中的可见物体和集合。

需要多次烘焙来完成光线在场景中的反弹计算，并将上次烘焙结果合成。整体烘焙时间受反弹次数影响而倍增。

光线反弹只限于漫反射照明。

参考

面板:

渲染 ‣ 间接光照明

自动烘焙

启用此选项将在更改探针时触发烘焙。调节探针物体时很有用。

漫射反弹

烘焙漫反射辐照度时光线的反弹次数。

立方体反射尺寸

立方体反射贴图的尺寸。

漫射遮蔽 (AO)

每个辐照度样本还存储一个阴影图, 用于尽可能地减少间接光泄漏。此参数定义此阴影贴图的大小。

辐射平滑

平滑辐照度插值，但引入光出血。辐照度能见度项可以使照明不在某些表面上平滑地插值。这减轻插值了权重。

钳制光泽

钳制像素强度，以减少反射立方体内光泽反射的噪点（0为禁用）。

过滤品质

在立方体贴图过滤期间增大采样以删除瑕疵。目前只对立方体贴图有效。

显示

立方体反射尺寸

在3D视图中直接显示缓存中存在的反射立方体贴图。

辐射尺寸

在3D视图中显示在缓存中存在的辐照度样本。

Note

缓存数据显示仅适用于3D视图，并且仅当视图在材质预览或渲染模式下使用世界光照时才能看到。