遮罩

遮罩

遮罩用于控制网格的哪些区域会受到雕刻的影响。

被遮罩的部分显示为黑色。

笔刷

要编辑遮罩，请从 “画笔” 面板中选择 遮罩画笔 。

编辑

参考

模式

雕刻模式

菜单

面具

快捷键

可以在整个模型中编辑遮罩。使用 A 打开饼菜单以选择不同的操作。

反转遮罩

参考

模式

雕刻模式

菜单

遮罩 ‣反转遮罩

快捷键

Ctrl-I

反转现有的遮罩。

填充遮罩

参考

模式

雕刻模式

菜单

遮罩 ‣填充遮罩

使用为1的数值来填充整个遮罩。

清除遮罩

参考

模式

雕刻模式

菜单

遮罩 ‣ 透明遮罩

快捷键

Alt-M

用0的值填充遮罩。要完全删除遮罩数据，请看清除雕刻-遮罩数据。

框选遮罩

参考

模式

雕刻模式

菜单

遮罩 ‣框遮罩

快捷键

其工作方式类似框选工具，它可以创建一个矩形的遮罩区域。按住 Shift 来清除选择区域内的遮罩。

套索遮罩

参考

模式

雕刻模式

菜单

面具‣套索面具

快捷键

Shift-Ctrl-LMB

可用于创建自由形式的遮罩，与套索选择类似。

Tip

要使用 套索遮罩 工具清除区域的遮罩，首先反转遮罩，应用 套索遮罩，然后再将遮罩反转回来。

遮罩滤镜

参考

模式

雕刻模式

菜单

遮罩 ‣ 遮罩滤镜

遮罩滤镜是应用于整个绘制遮罩的操作。

类型

平滑/锐化遮罩

更改遮罩边缘的清晰度。

生长/收缩遮罩

更改遮罩的大小。

提高/降低对比度

更改遮罩的对比度。

迭代

将应用筛选器的次数。

自动迭代次数

根据雕刻的顶点数使用自动迭代次数。

按拓扑展开遮罩

参考

模式

雕刻模式

菜单

掩码 ‣ 按拓扑扩展掩码

快捷键

Shift-A

以均匀的方式从活动顶点向外辐射遮罩。

Note

此运算符旨在通过快捷方式以交互方式使用。

快捷键

反转

F 在扩大正遮罩（值为1）或负遮罩（值为0）之间翻转。在面组的情况下，这个选项在包括遮蔽区域内的区域或遮蔽区域外的区域之间翻转。

切换保留状态

E 将新的遮罩累积在前一个遮罩之上，而不是替换它。对于面组，这将创建面组的边界，而不是替换现有的面组。

切换渐变

G 启用线性梯度，创建一个从原点到当前活动顶点的线性梯度值。

测地法递归步骤

R 从当前衰减的启用顶点的边界生成一个新的测地线衰减。

拓扑递归步骤

Alt-R 从当前衰减的启用顶点的边界生成一个新的拓扑全填充衰减。

移动原点

空格键移动用于计算衰减的初始顶点。

测地线衰减

1 使用基于测地线距离的衰减，从边缘边界到活动顶点。

拓扑衰减

2 使用基于泛滥填充的渐变，使用边缘。

对角线偏移

3 利用多边形的对角线和边缘，在泛滥填充的基础上使用淡化。

球形

4 使用基于从边缘边界到活动顶点的欧几里得距离的衰减。

对齐扩展到面组

Ctrl 将扩展的区域隔离到游标下设置的面的边界。

循环计数增加

W 增加运行运算符的循环或迭代次数;使用四个循环会将掩码分成四个部分。

循环计数减少

Q 减少运行运算符的循环或迭代次数；使用四个循环会将掩码分成四个部分。

切换画笔渐变

B 类似于线性渐变，但使用当前画笔衰减来定义渐变的形状。

纹理失真增加

Y 在使用纹理扭曲遮罩形状时增加衰减距离。

纹理失真减少

T 减少使用纹理扭曲遮罩形状时的衰减距离。

用法

纹理

纹理可用于影响遮罩的 “强度” 。此功能可以与循环和递归结合使用，以创建真正独特的外观遮罩。要启用纹理，您首先需要创建/选择要使用的纹理，这是通过在属性编辑器的纹理属性来完成的。接下来，在纹理画笔设置中选择纹理，同时确保启用 3D 映射映射。现在，您可以使用 Y 和 T 来增加或减少纹理对遮罩边缘的影响。

按法向展开遮罩

参考

模式

雕刻模式

菜单

遮罩 ‣ 按法线扩展遮罩

快捷键

Shift-Alt-A

创建一个从活动顶点向外辐射的掩模，同时遵循网格的曲率。此运算符使用与按拓扑展开遮罩相同的内部运算符，这意味着所有快捷方式和功能的工作方式与该工具相同。

Note

此运算符旨在通过快捷方式以交互方式使用。

遮罩提取

参考

模式

雕刻模式

菜单

面膜 ‣面膜提取物

从被遮蔽的几何体创建副本网格物体。

阈值

最小遮罩值，用以考虑从原始网格中提取面的顶点有效。

添加边界循环

在几何图形的边上创建和额外的边界环，使其准备好稍后添加 “细分曲面” 修改器。

平滑迭代

应用于提取网格的平滑迭代次数。

投影至雕刻

将提取的网格投影到原始雕刻物体中。

提取为实心

向新创建的网格物体添加实体化修改器。

遮罩切片

参考

模式

雕刻模式

菜单

遮罩 ‣ 遮罩切片

从网格中删除遮罩顶点。

阈值

最小遮罩值，用以考虑从原始网格中提取面的顶点有效。

填充洞面

使用可能由 遮罩切片 操作产生的几何体填充凹孔。

切片到新物体

从被遮蔽的几何体创建新的物体。

Mask From Cavity

参考

模式

雕刻模式

菜单

面具‣脏面具

Generates a mask based on the cavity of the surface. The settings of the operation can be changed in the Adjust Last Operation panel.

模式

Choose how the newly created mask is mixed with the existing one. By default it will replace the old mask via “Mix”.

混合因子

The factor of the mix effect. Choose how strong the new mask is applied on the existing one.

Automask Settings

The same settings as the Auto-Masking settings are applied.

系数

Same as Auto-Masking.

模糊

Same as Auto-Masking.

反转

Same as Auto-Masking.

自定义曲线

Same as Auto-Masking.

随机遮罩

参考

模式

雕刻模式

菜单

遮罩 ‣ 随机遮罩

根据不同的网格数据为整个对象生成具有随机值的掩码。

逐顶点

为每个顶点分配一个随机掩码值。

逐面组

为每个面组分配一个随机遮罩。

删除松散元素

为网格的每个不相交部分指定一个随机掩码值。

显示设置

参考

模式

雕刻模式

弹出框

视图覆盖 ‣ 雕刻 ‣ 遮罩

遮罩显示可以切换为视口叠加。在叠加弹出框中，可以调整遮罩叠加的不透明度，使其在网格上或多或少可见。

清除雕刻遮罩数据

参考

模式

物体/编辑模式

菜单

属性 ‣物体数据 ‣ 几何数据 ‣ 清除雕刻遮罩数据

将掩模数据层从网格中完全释放出来。虽然这不是一个巨大的好处，但如果不再使用面具，这可以加快雕刻速度。